半導体

半導体製造・クリーンルームでの露点計・酸素濃度計・温湿度計・風速計

半導体製造プロセスにおいて、水分および酸素の除去は大きな課題です。当社の露点計や温湿度計、酸素濃度計は半導体の製造、搬送、検査等様々な工程で使用されています。またドライエアーにおける除湿度や窒素ガス・アルゴンガス・ヘリウムガス・水素ガス等のガス純度測定のためにも使用されています。 水分計測では、最低-100℃露点まで測定可能なTK-100静電容量式露点計(酸化アルミタイプ)をはじめとして、最低-60℃露点までのTE-660露点計(高分子タイプ)、-95℃~+99℃露点まで測定でき高精度が必要な場合や露点計の基準器として使用されているMBW鏡面冷却式(ミラー式)露点計、そして湿度の領域では簡易型のEE060、高温・高湿下での測定を主とする結露防止環境下での対策が施されたEE-33温湿度計などが主に使用されています。 酸素濃度計測では、水素置換による酸素除去の際には2001LCガルバニ電池式酸素濃度計でPPMまで、水素が存在しない状況ではModel 4100ジルコニア式酸素濃度計でPPBまでの分析を行うなど、様々なシーンで使用されます。 また、クリーンルームや製造装置内の微風計測に風速計も活躍しています。

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